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渦輪分子磁控濺射抽真空
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渦輪分子磁控濺射抽真空

湖北快3预测一定牛走势图 www.kfhos.icu 上海伯東代理德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700 成功應用于寧波某研究所磁控濺射(Megnetron Sputtering)系統.寧波某研究所磁控濺射(Megnetron Sputtering)系統用于光刻膠片上濺金屬鉻,銅,鈦.其中材料生長腔工作真空度要求 < E-7 hPa,能做到4英寸片,3靶位,可實現編程鍍膜.材料生長腔對渦輪分子泵的要求較高,老師在考量了德國普發 Pfeiffer Hipace 700 渦輪分子泵和愛德華 Edwards STP603 分子泵后,因為對分子泵的壓縮比要求較高,最終選擇了德國普發 Pfeiffer 分子泵.
 Pfeiffer 渦輪分子泵
-------寧波某研究所磁控濺射系統加裝 Pfeiffer 渦輪分子泵-----

德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 700 主要優點:
1.高壓縮比 >1x1011
2.使用壽命長
3.渦輪分子泵真空度高且穩定 < E-7 hPa
4.大抽速 (N2) 685 l/s
5.與愛德華 Edwards STP603 相比,更大壓縮比,真空度高且更穩定
值得一提的是,德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵廣泛應用于國際知名的磁控濺射廠商,如美國 SVTA,芬蘭 DCA,北京匯德信等.
Hipace 700

寧波某研究所磁控濺射(Megnetron Sputtering)系統,同時使用上海伯東德國普發 Pfeiffer 真空規 PKR 251 測量腔體真空度,美國 HVA6'S 真空閥門和德國普發 Pfeiffer 氦質譜檢漏儀 ASM 340 檢漏腔體.

上海伯東德國普發 Pfeiffer 渦輪分子泵 Hipace 系列產品抽速范圍 10 l/s 至 2300 l/s,轉子速率可達90000rpm。更有渦輪分子泵組 Hicube 系列和全磁浮渦輪分子泵 ATH 系列供選擇已滿足不同應用。Pfeiffer 渦輪分子泵更獲得歐洲工業設計最高獎“紅點獎”.

 

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